納米位移臺在運動過程中，回差會對定位精度和重復性產(chǎn)生明顯影響，其主要影響如下：
定位誤差增加
回差導致位移臺在前進和后退時同一目標位置出現(xiàn)偏差，即實際位置與期望位置不完全重合，降低定位精度。
重復性差
在需要多次移動到同一位置的實驗或測量中，回差會使每次到達的實際位置不同，影響實驗的可重復性和數(shù)據(jù)可靠性。
測量或加工誤差累積
對于長行程或連續(xù)運動，回差會逐步累積，尤其在掃描或步進控制中，會造成累積誤差，使最終定位偏離目標。
控制系統(tǒng)補償困難
即使使用閉環(huán)控制，回差也會增加控制系統(tǒng)的負擔，需要通過算法或前饋補償來減小誤差，否則高精度任務(wù)可能無法實現(xiàn)。
影響實驗結(jié)果或加工質(zhì)量
在納米操作、精密定位、光學掃描或材料加工中，回差會導致實驗數(shù)據(jù)偏差或加工圖案畸變，直接影響結(jié)果可靠性。